实验室真空高温炉

设备简介

美国Thermal Technology高温炉适用于各种实验室应用及小规模生产。操作简单，性能稳定。**可定制温度达3000℃。

设备特点：

* 丰富加热原件可供选择

* **温度可达3000°C

* 可实现超高真空

* 可实现Ar/N₂/O₂/H₂等多种气氛环境

应用领域:

美国Thermal Technology高温炉可用于粉末冶金、金属化合物、陶瓷、半导体、物理、化学、材料、光学等诸多领域的样品合成及热处理工艺。

石墨高温炉

金属高温炉