凭借在蚀刻GaN，SiC和蓝宝石等材料方面的丰富经验，我们的技术既能够满足性价比的要求、又能使器件的性能得到更优化。

PlasmaPro 100 Polaris单晶圆刻蚀系统为得到更为精湛的刻蚀效果提供了智能解决方案，使您在行业中能保持竞争优势。

• 高效的刻蚀速率

• 低购置成本

• 专为腐蚀性的化学成分而设计

• 出色的刻蚀均匀性

• 适用于蓝宝石的静电压盘技术

• 蓝宝石和硅上的GaN

• 高导通抽气系统

• 可与其它PlasmaPro系统集成

设备特点：

• 主动冷却电极 - 在刻蚀过程中保持样品温度

• 高功率ICP源 - 产生高密度等离子体

• 可靠的硬件且易于维护 - 可保持长时间正常运转

• 磁场垫环 - 增强离子的控制和均匀性

• 静电压盘技术 - 适用于蓝宝石，以及蓝宝石和硅基的GaN

• 加热的腔室内衬 - 优化以减少腔壁沉积

• 先进的自动匹配单元（AMU） - 提供快速，高效和准确的匹配，确保工艺的高度准确重复性