石墨盘专用真空烤盘炉

产品介绍：真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体，炉内抽真空，被处理工件放置在炉膛内，采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗（清洗气体：N2，H2）。

应用范围：

主要用于有效清除MOCVD承受器 （SiC涂层石墨盘或石英盘）上的氮化镓和氮化铝等，可达到有效清洁处理，提高制品质量的目的。

设计特点：

1、后门设计热风电机

2、降温时风机开启，同时两端降温封头开启， 炉膛内产生如图所示的气体流向

3、通过气体介质将隔热层内与水冷壁之间进 行热交换，达到快速降温的目的

内部系统结构及原理：

技术参数：