SLP28B/30B数控平面精密环抛机本机床属高精度光学、电子、陶瓷、硅片、机械零件件等平面脆性元件的精密抛光设备。机床PLC数字程序控制运行模式可独立控制各种运行程序，具有各传动系统无级调速、定时控

LM10A平面精密研磨机产品详细介绍用于高精度光学、电子、活塞环、机械另件等平面元件的研磨。三个加工工位。可选配三个工件环和一个修正环修正环用来修正工作台面的平面度。用于高精度光学、电子、活塞环、机械

LP12A-4/16A-4四轴气压平摆环抛机产品详细介绍用于高精度光学玻璃、石英晶片、陶瓷、硅片、蓝宝石等平面元件的精密抛光设备，适合批量零件聚氨酯抛光。4个加工工位单独平幅、加压，摆幅、压力可根据加

主要技术参数 1、加工范围 Φ30～Φ400mm 2、水盆直径 Φ560mm 3、主轴数 2轴 4、主轴精度 ≤0.02

JP15.4D四轴研磨抛光机 主要技术参数 加工镜盘直径 Φ≤150mm 曲率半径 R≥10mm 主轴间距 450 主轴转速 30

QJP25.4B四轴气压精密研磨抛光机用于光学玻璃、石英、晶体、陶瓷、硅片、蓝宝石等平面、球面元件的精密研磨、抛光。主轴、摆轴，转速、压力、时间可根据加工零件的需要单独调整。 主要技术参数

主要用于各种光学玻璃、高精度磨具等脆性材料的小球面的精磨及抛光。主要技术参数加工直径10mm主轴数20轴主轴\接头锥度1:15主轴转速500～1500转/分主轴精度0.02mm摆幅 主要用于各种光学

JP30.2A两轴手修磨抛机用于光学玻璃、石英、晶体、电子元件等材料的球面、平面零件的手动修磨和抛光。 主要技术参数 主轴数 2轴 水盆 Φ400mm

XZ20.2A两轴斜轴球面研磨抛光机主要用于光学平面镜、大球面镜的研磨和抛光以及各种高精度平面、球面模具的研磨抛光。主轴可左倾斜调整45度，来满足大球面零件的加工精度要求 主要技术参数

用于光学玻璃及石英、晶体、模具等材料的球面、平面研磨和抛光。三种型号：（1）JP05.6A采用主摆联动的方式；（2）JP05.6B采用两轴联动的方式（3）JP05.6C采用主轴和摆轴单独分开变频调速的

用于球面镜的研磨和抛光，三角架应用电控气动装置，摆架为直线往复运动，主轴内外喷液系统。主轴可任意倾斜30°倾角。 主要技术参数 GXZ15.2B GXZ30.2B

JP16A/12A单轴研磨抛光机 用于平面、球面镜的研磨抛光，以及高精度金属或非金属模具的研磨抛光。主轴转速、摆架摆次可以根据加工零件需求单独变频调速，摆架压力由气压控制，也可以用配重来调整压力。

ZKM05A真空吸修磨机本机床为小型镜片的手动抛光、倒边、表面涂黑设备，它采用压缩空气通过真空发生器产生真空而固定工件。脚踏开关控制主轴起动及停止的同时,相应延时控制工件的吸着与松开。也可以用外吸工具

主要用于硅片、铌酸锂、玻璃、阀片、机械密封件以及超硬材料的平面单面加压研磨抛光。A型机床具有主动轮回转机构，B型机床压盘具有迴转系统。 主要技术参数 DMYP12A-4

SXM350A数控平面精密铣磨机 本机床精密度高、切削力强、面型稳定，高智能化一键操作。适用于：光学玻璃、陶瓷、石英、水晶、电子半导体、金属等材料的平面粗磨、精磨。 采用PLC、触摸屏控制器，

FJP08A/10A单轴翻转磨抛机本机床适用于加工大口径光学玻璃、石英、晶体等材料的平面、球面、非球面的研磨和抛光。为了对工件水平检测要求，工作台可平稳电动和手动翻转90° 主要技术参数

我公司以高纯度醇铝为原料，将醇铝水解生成AlOOH，用碱作胶溶剂进行胶解，开发出了多种PH值为7-9的、胶粒粒径在10纳米、分散性较好的铝溶胶产品，且产品具有胶体特征，其外观为乳白色胶体。胶粒微观结构

霸州市斯诺特过滤净化设备有限公司手机：15076646660客服QQ：905866616除尘滤芯介绍：六耳卡盘快拆除尘滤筒除尘滤芯是根据各种粉末状物质的经过孔径设计制作的圆柱，圆锥，椭圆，扁框等形状的

一、BQ41保温球阀产品特点BQ41保温球阀具有良好的保温保冷特性,且阀门的通径与管径一致,同时又能有效降低管路中介质热量损失。主要用于石油、化工、冶金、制药、食品等各类系统中，以输送常温下会凝固的高

一、概述：保温截止阀具有良好的保温保冷特性，且阀门的通径与管径一致，同时又能有效降低管路中介质热量损失。具有良好的保温保冷特性，同时又能有效降低管路中介质热量损失。保温阀门在石油、化工、冶金、制药等各