产品概览AMI-300旗舰型是AMI仪器公司提供的新一代全自动化学吸附分析仪器。该仪器均是基于无人值守理念设计的全自动催化表征仪器，具有高可靠性的独立控制软件，及完善的数据处理软件，最先由催化剂研究人

产品概览相较于旗舰版AMI-300系列，AMI-300Lite系列结构更加紧凑，更经济，同时又能提供快速的催化剂表征功能。AMI-300Lite系列专为预算有限和对应用要求比较常规的客户而设计。功能强

产品概览AMI-300IR代表着催化剂表征仪器的发展方向和未来，美国AMI仪器公司自1984年推出全世界首台全自动化学吸附分析仪之后，于2015年又推出全世界第一台全自动原位红外催化剂特性表征系统。化

产品概览自AMI仪器公司成立以来，不断会有客户提出需要反应器或者表征设备能够足够的耐腐蚀能力，可以处理有腐蚀性、高反应活性或不稳定的反应物和产物。而这些使用要求需要我们的测试设备可以适用于非常“严苛”

产品概览AMI-300HP是ALTAMIRA公司以其旗舰机型AMI-300为基础研发出的全自动化的高压化学吸附分析仪。可以在高达100bar压力下执行的动态高压程序升温实验。可集成液相进料功能，作为台

产品概览相较于旗舰版AMI-300系列，AMI-300Neo系列结构更加紧凑，更经济，同时又能提供快速的催化剂表征功能。AMI-300Neo系列专为预算有限和对应用要求比较常规的客户而设计。功能强大的

分析站最多12个重复偏差≤0.02nm比表面积0.0005m2/g至无上限孔径分析0.35nm-500nm产品概览Features产品特点多单元级联设计仪器采用多个工作单元级联设计，各工作单元可独立进

孔径范围0.35nm-500nm比表面范围0.0001m2/g-无上限中值孔径重复性（SD）≤0.02nm比表面重复性（RSD）±1%产品概览Features产品特点测试原理低温条件下（液氮或液氩等）

孔径范围0.35nm-500nm比表面范围0.0001m2/g-无上限中值孔径重复性（SD）≤0.02nm比表面重复性（RSD）±1%产品概览Features产品特点测试原理低温条件下（液氮或液氩等）

孔径范围0.35nm-500nm比表面范围0.0001m2/g-无上限中值孔径重复性（SD）≤0.02nm比表面重复性（RSD）±1%产品概览Features产品特点测试原理低温条件下（液氮或液氩等）

孔径范围0.35nm-500nm比表面范围0.0001m2/g-无上限中值孔径重复性（SD）≤0.02nm比表面重复性（RSD）±1%产品概览公司推出的TOP系列气体吸附仪，结构紧凑，功能强大。微孔，

孔径范围0.35nm-500nm比表面范围0.0005m2/g-无上限中值孔径重复性（标准偏差）≤0.02nm比表面重复性（RSD）±1%产品概览Superiorities技术优越性独有的Vtech技

氮分压P/P0范围0.05-0.35比表面范围0.01m2/g-无上限炭黑标准样品重复精度±1%测试效率5min产品概览Features产品特点发明专利发明专利DX型仪器，不采用常规的脱附过程而采用吸

孔径范围0.35nm-500nm比表面范围0.0005m2/g-无上限中值孔径重复性（标准偏差）≤0.02nm测试重复性（RSD）±1%产品概览产品特点测试原理低温条件下（液氮或液氩等），在密闭的真空

孔径范围0.35nm-500nm比表面范围0.0001m2/g-无上限中值孔径重复性（SD）≤0.02nm比表面重复性（RSD）±1%产品概览Features产品特点测试原理低温条件下（液氮或液氩等）

孔径范围0.35nm-500nm比表面范围0.0005m2/g-无上限中值孔径重复性（SD）≤0.02nm比表面重复性（RSD）±1%产品概览Features产品特点测试原理低温条件下（液氮或液氩等）

孔径范围0.35nm-500nm比表面范围0.0001m2/g-无上限中值孔径重复性（SD）≤0.02nm比表面重复性（RSD）±1%产品概览AMI旗下的QUICK系列延续了研究级TOP系列的诸多有点

氮分压P/P0范围0.05-0.35比表面范围0.01m2/g-无上限炭黑标准样品重复精度±1%测试效率5min产品概览Features产品特点发明专利发明专利DX型仪器，不采用常规的脱附过程而采用吸

氮分压P/P0范围0.05-0.35比表面范围0.01m2/g-无上限炭黑标准样品重复精度±1%测试效率5min产品概览Features产品特点脱附峰应用于工业中生产线上产品的快速检测。测试准确、高效

ALP2300系列隔爆型智能阀门定位器采用微控制器电子控制单元，PID精确算法的控制仪表。采用4～20mA两线供电，LCD点阵液晶屏显示，单、双作用一体化通用结构，安装方便，抗干扰、低能源损耗，带HA