高温真空气氛电阻炉设计作为间歇性窑炉之一，用于长期在1600℃工作条件下对氮化铝、氮化硅和氮化硼等陶瓷材料、半导体材料、器件、金属材料的低真空、保护性气体的还原性热处理；也可用于特殊材料的热处理，如碳制品的碳化工艺研制之用。该炉采用金属壳体全外密封方式，炉壳双层设计，夹层水冷结构，优质U型硅钼棒加热，进口程序控温仪控制，温控仪可设定64段升温曲线、P、I、D控制参数自整定、并具有超温、过流、断偶等报警保护功能。炉体采用真空吸附无机超轻质氧化铝纤维材料，具有热容小、温度升降控制灵活、节能等特点，设备配备真空泵，可预抽真空。非常适合于试验和小批量生产之用。